Université de Franche-Comté

Thin-film deposition and characterisation methods

L’université de Neuchâtel propose, sur 8 vendredis, du 28 avril au 23 juin 2000, une formation en microtechnique qui présente les bases théoriques et les aspects pratiques relatifs aux différentes techniques récentes de déposition de couches minces (pulvérisation cathodique, évaporation thermique, déposition par plasma, déposition chimique, gravure par plasma pour micro-usinage), étudie les différentes méthodes d’analyse pour la caractérisation des couches minces et examine les exemples issus du monde industriel.

• Cette formation s’adresse aux ingénieurs, techniciens et gestionnaires chargés de concevoir des processus industriels et de rechercher des solutions en matière de couches minces et de revêtements.

 

L’université de Neuchâtel propose, sur 8 vendredis, du 28 avril au 23 juin 2000, une formation en microtechnique qui présente les bases théoriques et les aspects pratiques relatifs aux différentes techniques récentes de déposition de couches minces (pulvérisation cathodique, évaporation thermique, déposition par plasma, déposition chimique, gravure par plasma pour micro-usinage), étudie les différentes méthodes d’analyse pour la caractérisation des couches minces et examine les exemples issus du monde industriel.

Fabienne Wyss
Formation continue
Université de Neuchâtel
tél. 41 32 718 11 20
fax 41 32 718 11 21
email uni.foco@admin.unine.ch

 

 

retour